国度常识产权局信息显露，北京朔方华创微电子装备有限公司恳求一项名为“一种纳米孔薄膜的制备花式及有关安设”的专利，公开号CN121872321A，恳求日历为2024年10月。

专利节录显露，本评释书执行例提供了一种纳米孔薄膜的制备花式，该花式最初在基板名义变成多个纳米级金属团，之后对基板进行等离子体刻蚀，以在基板的蓄意位置变成纳米孔，所述蓄意位置包括纳米级金属团场地位置，况兼所述等离子体刻蚀禁受的刻蚀气体包括含碳气体和含氧气体；如斯，在刻蚀经由中，运用纳米级金属团的溶碳工夫，将刻蚀气体解离出的活性解放基在纳米级金属团场地位置处富集，从而增多纳米级金属团场地位置处的刻蚀速度，同期含氧气体梗阻含碳气体变成的保护膜，天博体育故意于进一步增多纳米级金属团位置处的刻蚀速度，从而使纳米级金属团位置处的刻蚀速度宽敞于其他位置。禁受该花式故意于裁减纳米孔薄膜的制备成本。

天眼查尊府显露，北京朔方华创微电子装备有限公司，开导于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册成本114153.708311万东谈主民币。通过天眼查大数据分析，北京朔方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标神色1405次，财产痕迹方面有商标信息73条，专利信息5000条，此外企业还领有行政许可340个。

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